这套加工手法与超级福岗的光感器加工工艺差不多。
而2纳米以后的超级浸润式设备与5纳米的不一样,5纳米是采用NA=0。33的曝光设备。
2纳米需要高解析度的曝光设备,更高的NA化,即NA=0。55(NA是数值孔径,与最大的临界角度有关)。
张冲志又利用一晚上的时间生产了十二套2纳米反射镜片,不过合格的只有七套,废了五套,对于一般人来说,可能合格率达不到百分之一。
NA=0。55的曝光设备,兰斯麦已有设计,不过技术要求太高,需要几年后才能生产出来,张冲志只是将它优化了一下,直接拿来用了,还美其名曰先用先得。
第二天,张冲志就先拿了两套报废的镜片,让攻关小组进行镀钼硅膜实验,测试能够达到的效果。
这种膜经过改良后,真将光能的吸吸率降低了10%,让攻关小组一阵欢腾,因为这可是与奖金挂勾的。
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利用两天时间将15套5纳米镜片镀好膜,又用一天时间将7套2纳米光刻机用镜片也镀好膜,就开始了超浸润设备的全机体制造。
张冲志边制作边指导说解,这些人是他培养的高端光刻机装配人员,为以后大批量生产高端光刻机做准备,当然好让自己偷懒!
他自己动手装配了一套5纳米光刻机,一套2纳米光刻机,第三套就交给工作人员装配去了,他在旁边指导。
只要镜片不毁,其它各种角度的微调让装配人员去摸索吧!
时间又过去了三天,8月14日,张冲志带领光刻机工作团队进行最后的安装调试,所有设备都检查了一遍,各部门都报告没有问题。
张冲志让人打开电源,一盏盏指示灯亮起,主控计算机开始检索,计算机装载鸿盛天机自动控制系统,所有页面都是玄语,让人一看就明白,当然是学玄语的人。
计算机检测完成,发出了让所有人都高兴的“滴”的一声,真是声音清晰响亮,是天籁之音。
接下来就是进行一项项测试;双工作台、测量台、曝光台等运转正常,极紫外激光器发光正常,超浸润系统工作正常。
光束矫正器工作正常,光束形状设置正常,掩膜台工作正常,物镜工作正常……
13个分项,数万个零件,重达五百吨的工业明珠运行正常!
接着开始整体空载运行,正常后开始正式加工,也叫载物运行。
就见一张18英寸,直径450mm的单晶硅硅圆被放在了双工作台上,接着开始硅片表面清洗、烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序,这个过程需经过多次。
一张越复杂的芯片,它的线路层数越多,越需要精密复杂,越繁锁的曝光控制过程。
当一张450毫米直径的晶圆上布满了密密规则的芯片,终于出现在众人的手上时,许多人都喜极而泣。
张冲志的眼中也贮满泪花,终于,终于,夏盛麒麟公司生产出了高精度的超浸润光刻机,轩辕无高端“芯片”的历史一去不复返了!
尹总和余向东,王守柱、王媛四人带着两张密布芯片的硅圆芯盘,直奔京都而去。
张冲志坚决不去,太麻烦了!
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